製品情報 | イワタニファインガス株式会社

イワタニファインガスでは超高純度の酸素や窒素、水素、ヘリウム、アルゴン、炭酸ガス、キセノン、ネオン、クリプトン等を品揃えしております。

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ガス名	窒素ガス	アルゴンガス	水素ガス	ヘリウムガス	酸素ガス	炭酸ガス	空気ガス
化学式	N2	Ar	H2	He	O2	CO2	Air
物性	不燃	不燃	可燃	不燃	支燃	不燃	支燃
規格	一般（99.99%）	一般（99.99%）	一般（99.95%）	一般（99.995%）	一般（99.5%）	一般（99.9%）	一般
	99.999%	99.999%		99.999%	99.8%	99.99%	高純度A
	99.9999%	99.9999%	99.9999%	99.9999%	99.995%	99.995%	高純度U
	99.99998%			99.99999%	99.9999%	99.999%

ガス名	メタン	アセチレン	エチレン	エタン	プロピレン	プロパン
化学式	CH4	C2H2	C2H4	C2H6	C3H6	C3H8
物性	可燃	可燃	可燃	可燃	可燃	可燃
規格	一般（99%）	一般（99%）	一般（99%）	99%	99.5%	一般（99%）
	99.90%	99.9999%	99.9%	99.9%
	99.99%
	99.9995%
	99.9999%

ガス名	1-ブテン	イソブテン	ノルマルブタン	イソブタン	ジメチルエーテル
化学式	1-C4H8	i-C4H8	n-C4H10	iso-C4H10	(CH3)2O
物性	可燃	可燃	可燃	可燃	可燃
規格	99%	99%	99%	98%	一般（99%）
規格					99%

ガス名	アンモニア	硫化水素	一酸化炭素	塩化メチル	六フッ化硫黄
化学式	NH3	H2S	CO	CH3CL	SF6
物性	可燃／毒	可燃／毒	可燃／毒	可燃／毒
規格	一般（99.9%）	99.9%	99.9%	99%	一般（99.9%）
	99.9%	99.99%	99.95%		99.9%
	99.999%		99.995%
	99.9999%

ガス名	塩素	一酸化窒素	二酸化窒素	亜酸化窒素	二酸化硫黄	塩化水素	臭化水素
化学式	CL2	NO	NO2	N2O	SO2	HCl	HBr
物性	支燃／毒	支燃／毒	支燃／毒	支燃	毒	毒	毒
規格	99.4%	99%	99.5%	一般（99.9%）	99.9%	99.7%	99%
		99.7%
	99.999%

ガス名	キセノン	クリプトン	ネオン	重水素
化学式	Xe	Kr	Ne	D2
物性				可燃
規格	99.995%	99.995%	99.99%	99.50%
	99.999%	99.999%	99.999%	99.995%
				99.999%

ガス名	化学式
エチルエーテル	(C2H5)2O
シクロプロパン	(CH2)3
シクロヘキサン	(CH2)6
アセトン	(CH3)2CO
硫化メチル	(CH3)2S
二硫化メチル	(CH3)2S2
ブチルメルカプタン	(CH3)3CSH
トリメチルアミン	(CH3)3N
ジクロロエチレン	1,1-C2H2Cl2
ジクロロエタン	1,2-C2H4Cl2
1,2-ブタジエン	1,2-C4H6
1-ブテン	1-C4H8
1-ヘキセン	1-C6H12
アルゴン	Ar
一酸化炭素	C(18)O
テトラクロルエチレン	C2Cl4
アセチレン	C2H2
塩化ビニル	C2H3Cl
トリクロルエタン	C2H3Cl3
エチレン	C2H4
酸化エチレン	C2H4O
エチルアセチレン	C2H5CCH
塩化エチル	C2H5Cl
エチルメチルケトン	C2H5COCH3
エタノール（エチルアルコール）	C2H5OH
エチルメルカプタン	C2H5SH
エタン	C2H6
オクタフルオロプロパン	C3F8
エンフルラン	C3H2CLF5O
イソフルラン	C3H2F5CLO
メチルアセチレン	C3H4
塩化アリル（塩化エチル）	C3H5Cl
プロピレン	C3H6
プロパン	C3H8
ビニルアセチレン	C4H4
トルエン	C6H5(CH3)・C7H8
エチルベンゼン	C6H5C2H5
塩化ベンジル	C6H5CH2CL
ベンゼン	C6H6
キシレン	C8H10
四塩化炭素	CCl4
四フッ化メタン（四フッ化炭素）	CF4
アクリロニトリル	CH2CHCN
塩化メチレン	CH2Cl2
臭化メチル	CH3Br
アセトアルデヒド	CH3CHO
塩化メチル	CH3Cl
酢酸ビニル	CH3COOC2H3
酢酸エチル	CH3COOC2H6
ヨウ化メチル	CH3I
ジメチルエーテル	CH3OCH3
メタノール	CH3OH
メチルメルカプタン	CH3SH
メタン	CH4
トリクロルエチレン	CHClCCl2
塩素	Cl2
一酸化炭素	CO
炭酸	CO2
硫化カルボニル	COS
二硫化炭素	CS2
オクタフルオロシクロブタン	cyclo-C4F8
水素	H2
硫化水素	H2S
臭化水素	HBr
ホルムアルデヒド	HCHO
塩化水素	HCl
ヘリウム	He
イソプロピルベンゼン	i-(C3H7)C6H6
イソブチルアルデヒド	i-C3H7CHO
イソプロピルアルコール	i-C3H7OH
イソブタン	i-C4H10
イソブテン	i-C4H8
イソバレルアルデヒド	i-C4H9CO
イソブタノール	i-C4H9OH
イソペンタン	i-C5H12
クリプトン	Kr
m-エチルトルエン	m-C7H7(C2H5)
窒素	N2
亜酸化窒素	N2O
n-ウンデカン	n-C11H24
ノルマル－ブタン	n-C4H10
ノルマル－ペンタン	n-C5H12
ノルマル－ヘキサン	n-C6H14
ノルマル－ヘプタン	n-C7H16
オクタン	n-C8H18
ネオン	Ne
アンモニア	NH3
一酸化窒素	NO
二酸化窒素	NO2
酸素	O2
空気	O2+N2
o-エチルトルエン	o-C7H7(C2H5)
p-エチルトルエン	p-C7H7(C2H5)
六フッ化硫黄	SF6
二酸化硫黄	SO2
トランス-2-ブテン	t-2-C4H8
キセノン	Xe

有害大気汚染物質測定用	HAPs-J9
	HAPs-J12
	HAPs-J17
	HAPs-BTX
	HAPs-JE3
	HAPs-J44
	HAPs-J44+EO
	HAPs-J44+F7
	HAPs-J52
	HAPs-J52SP
内部標準ガス	―
光化学スモッグモニタリング用	PAMS-J58
新規自動車排気ガス規制用	NMOG
室内空気汚染測定用	IAP-JH
室内空気汚染測定用	IAP-J37

VOCsフリーゼロガス	超高純度窒素
	超高純度ヘリウム
	超高純度合成空気

VOCsフリー超精密圧力調整器

標準ガス／VOCsフリーゼロガス用	形式	１次側圧力	２次側圧力	流量	材質
標準ガス／VOCsフリーゼロガス用	YSRH-25025	25MPa	0.25MPa	10mL～2L／分	SUS-316

ガス名	モノシラン	ジシラン	モノメチルシラン	トリメチルシラン
化学式	SiH4	Si2H6	(CH3)SiH3	(CH3)3SiH
物性	可燃／毒	可燃／毒	可燃	可燃
規格	99.9999%	99.99%	99.99%	99.99%

ガス名	ホスフィン	ジボラン	アルシン	ゲルマン
化学式	PH3	B2H6	AsH3	GeH4
物性	可燃／毒	可燃／毒	可燃／毒	可燃／毒
規格	99.999%	99.995%	99.999%	99.95%
	99.9995%	99.999%	99.9999%	99.999%
	99.9999%	―	―	―

ガス名	二フッ化メタン	三フッ化メタン	四フッ化メタン
化学式	CH2F2	CHF3	CF4
物性	可燃	―	―
規格	99.9%	99.9%	99.99%
	99.99%	99.99%	99.999%
	―	99.999%	―

ガス名	六フッ化硫黄	三フッ化窒素
化学式	SF6	NF3
物性	―	支燃／毒
規格	一般（99.9%）	99.995%
	99.9%	―
	99.999%	―

ガス名	三フッ化ホウ素	三塩化ホウ素	三フッ化塩素	三フッ化リン	四フッ化ケイ素
化学式	BF3	BCL3	CLF3	PF3	SiF4
物性	毒	毒	支燃／毒	毒	毒
規格	99.99%	99.999%	99.9%	99.99%	99.999%

ガス名	ジクロロシラン	六フッ化タングステン
化学式	SiH2Cl2	WF6
物性	可燃／毒	毒
規格	99.9%	99.999%
規格	―	99.9995%

ガス名	規格	O2	H2	CO	CO2	CH4	THC	H2O
窒素ガス	一般（99.99%）	50	―	―	―	―	―	13.9
	99.999%	5	2	1	1	―	1	9.3
	99.9999%	0.2	―	0.1	0.1	0.1	―	1.03
	99.99998%	0.01	0.02	0.02	0.02	―	0.02	1

ガス名	規格	N2	O2	H2	CO	CO2	CH4	THC	H2O
アルゴンガス	一般（99.99%）	50	10	―	―	―	―	―	10
	99.999%	5	1	2	―	1	―	1	2.6
	99.9999%	1	0.2	―	0.1	0.1	0.1	―	1.03
	99.99994%	0.3	0.1	0.05	0.05	0.05	0.05	―	1

ガス名	規格	N2	O2	CO	CO2	THC	H2O
水素ガス	一般（99.95%）	200	50	1	1	5	20.7
	99.9999%	0.2	0.1	0.05	0.05	0.05	1.03
	99.99999%	0.05	0.02	0.01	0.01	0.01	0.5

ガス名	規格	N2	O2	CO	CO2	THC	H2O
ヘリウムガス	一般（99.995%）	20	5	1	5	1	5.3
	99.999%	5	1	1	1	1	2.6
	99.9999%	0.2	0.1	0.05	0.05	0.05	1.03
	99.99995%	0.02	0.01	0.02	0.02	0.02	1

ガス名	規格	N2	Ar	CO	CO2	CH4	H2O
酸素	一般（99.5%）	2500	2500	―	―	―	20.5
	99.8%	500	―	―	―	15	10
	99.999%	5	―	0.5	0.5	0.5	1
	99.9999%	0.2	0.1	0.03	0.03	0.03	1

ガス名	規格	CO	CO2	THC	H2O	NOX	SOX
空気	一般	―	―	―	―	―	―
	高純度A	1	2	3	10	―	―
	高純度U	1	1	0.1	5	0.01	0.01
	超高純度	0.1	0.1	0.1	0.54	0.005	0.005

ガス名	規格	N2	O2	Ar	CO2	H2O	C2H6	C3H8	その他
メタン	一般（99%）	3000	―	―	―	―	―	―	1000
	99.9%	700	10	1	1	5	―	―	―
	99.99%	20	1	1	1	2	1	1	―
	99.9995%	―	―	―	―	―	―	―	―
	99.9999%	0.5	0.02	0.02	0.02	2	0.06	0.09	―

ガス名	規格	N2	O2	H2	CO2	CH4	H2O
一酸化炭素	99.9%	500	100	100	100	―	10
	99.95%	150	30	15	30	1	3
	99.995%	10	2	5	5	0.5	1

ガス名	規格	N2	CO2	CH4	H2O	N2O	NO2
一酸化窒素	99%	5000	500	―	10	3000	1000
	99.7%	1000	100	―	5	1000	1000
	99.99%	30	1	1	1	30	30

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ガス種	ガスの概要とその使用用途など
O2	化学分析、材料試験では、酸素を使って物質の酸化を調べることで成分や劣化の程度を評価。環境制御：食品・医薬品の保存では、酸素濃度を制御することで微生物の繁殖や酸化劣化を防止。
N2	雰囲気ガス：酸化や燃焼などの化学反応を防ぐ、酸素を排除して品質の劣化（酸化、腐敗）を防止。
液体窒素	超低温冷却（金属や樹脂の脆性試験、電子部品の熱衝撃試験、医薬品の冷凍保存）。
Ar	キャリアガス、試料を分析装置に運ぶための媒体。
He	キャリアガス、試料を分析装置に運ぶための媒体。
H2	キャリアガス、試料を分析装置に運ぶための媒体。
空気	環境制御（環境の清浄度維持、微粒子や汚染物質の混入防止）乾燥・冷却・搬送、リークテストなど。
アセチレン	原子吸光分析において、同ガスは主にフレーム（炎）を作る為の原料ガス。
標準ガス	分析機器の校正：測定機器の正確な値を示すように調整。
校正用ガス	センサーや分析機器の校正用、機器の精度を保つために既知濃度のガスを使用して校正を行う。
ゼロガス	分析機器のゼロ点調整（ゼロ校正）、ガス分析計や環境測定機器、目的の成分を含まない高純度ガスを指す。

ガス種	ガスの概要とその使用用途など
O2	細胞呼吸によるATP（エネルギー）の産生、脳機能の維持、免疫力の向上、美容・代謝の改善、酸素カプセルや酸素水などの健康促進。
N2	医療用酸素とブレンドして病院内に清潔な空気を送る。液体窒素は、研究用の細胞、血液、精子・卵子などの凍結保存と輸送に利用されている。
CO2	細胞培養インキュベーター内で培地のPHの安定化に利用。
亜酸化窒素	手術・歯科治療での鎮静・鎮痛用途で利用される。酸素と混合して吸引することで痛みと不安を軽減。
医療用二酸化炭素	腹腔鏡手術での気腹、呼吸中枢の刺激、血管造影・カテーテル治療等で利用されている。
混合ガス（CO2+O2+N2）	細胞培養ガスとして利用されている。
一酸化窒素	主に肺血管拡張作用で利用されることがある。全身の血管には作用しない為、副作用が少ないのが特徴。

ガス種	ガスの概要とその使用用途など
LN2	細胞・組織の凍結保存や輸送、クライオサージェリー（低温手術：イボ・ほくろ・皮膚腫傷）。
ドライアイス	血液・ワクチン・細胞・組織などの低温輸送、病理組織や微生物検体の一時保存などで利用されている。
フロン	冷凍機器（超低温フリーザー、保冷庫、試薬保存槽など）の冷媒として利用される。環境負荷が高く、低GWP冷媒や自然冷媒（CO2,NH3）への移行が進行中。
CO2	医療・研究試料（血液、細胞、ワクチンなど）の短期輸送、食品・医薬品の保冷包装、皮膚疾患の冷凍治療、医療機器や生体分析の低温滅菌、薬品・食品成分の抽出・保存など。
液体ヘリウム	超電導磁石の冷却（MRI、NMRなど）、高感度センサーや検出器の冷却（X線検出器、宇宙望遠鏡など）、生体試料の抽出や保存。

ガス種	ガスの概要とその使用用途など
空気	圧力変化による簡易リークテスト。包装材や容器の検査に利用。
N2	ガス置換（酸素や水分を置換。食品・医薬品・電子部品の包装や保存に使用）。
Ar	ガス置換（高純度・不活性。溶接や半導体製造での酸素・水分除去）。
CO2	ガス置換（食品包装での酸素置換。微生物の増殖抑制効果）。
He	ガス置換（高い拡散性を活かし、真空装置や分析機器のパージで使用）。
H2+N2	安全性を高めたリークテスト用ガス、水素の高感度性を利用。ヘリウムの代替品。
O2+CO2	食品（肉製品等）酸化防止用途で利用。

ガス種	ガスの概要とその使用用途など
H2	水素燃料として燃料電池発電や水素タービン発電に利用。太陽光や風力などの変動制再エネ電力を使って水を分解し、グリーン水素製造。水素利用した熱・電力供給。
NH3	炭素を含まない化合物であり、燃焼してもCO2を排出しない。石炭火力発電への混焼や専焼用途で期待がされている。
CO2	地球温暖化の最大要因で削減が必要。カーボンニュートラルは、CO2の排出量と吸収量を均衡させることで実質ゼロを目指す考え。 CO2の回収・貯留（CCS）と除去（CDR）。

ガス種	ガスの概要とその使用用途など
O2	金属の溶解・切断、ガラス・セラミック製造、廃棄物焼却、高濃度酸素供給による呼吸補助、液体酸素はロケット燃料の酸化剤として利用され、燃焼（液体水素）と反応して推進力を生む。
H2	水素エンジン、水素ガスタービン、産業炉・高熱加熱で利用されている。
NH3	火力発電での混焼・専焼、産業炉での燃料転換（化石燃料の代替）。
LPG	プロパン・ブタンを主成分とするガスで燃焼性が高く、エネルギー密度にも優れている。都市ガスの増熱用や、低熱量の天然ガス（シェールガスなど）を補う燃材としても利用されている。
アセチレン	ガス溶接、金属切断、局部加熱で利用され、造船や建設、自動車、配管などの分野で広く使用されております。自己分解性のガスで容器は立てて使用するなど取り扱いには注意が必要です。

ガス種	ガスの概要とその使用用途など
O2	植物は根や葉で酸素を使って細胞呼吸を行い、エネルギーを生成します。その他土壌微生物の活性化、病害虫耐性の向上が見込まれます。
CO2	光合成の促進による成長加速、その結果、収量と経済性の向上。
LPG	温室の加温用燃料として利用されております。また、暖房機器による温度一定化等の環境制御に不可欠で生育スピードの向上や病害虫の発生リスク低減、収量増加の効果が得られます。

ガス種	ガスの概要とその使用用途など
O2	細胞呼吸によるATP（エネルギー）の産生、脳機能の維持、免疫力の向上、美容・代謝の改善、酸素カプセルや酸素水などの健康促進。
N2	医療用酸素とブレンドして病院内に清潔な空気を送る。液体窒素は、研究用の細胞、血液、精子・卵子などの凍結保存と輸送に利用されている。
CO2	細胞培養インキュベーター内で培地のPHの安定化に利用。
He	超電導磁石の冷却（MRI、NMRなど）、分析器のキャリアガス、タンパク質・分子構造解析などで利用されております。

ガス種	ガスの概要とその使用用途など
O2	酸素は、シリコン（Si）と反応して酸化シリコン（SiO2）膜を形成します。主にデバイスのゲート絶縁膜や素子分離、層間絶縁膜などに使用される極めて重要な材料です。酸素は、CVD（化学気相成長）プロセスにおいて、TEOS（テトラエトキシシラン）などの前駆体と反応し、 SiO2膜を低温で形成するために使用されます。
N2	酸化防止（不活性ガスとして利用：酸素を除去するパージガス）、シリコンウェハー洗浄した後、表面に残った水分除去にドライな窒素ガス利用、クリーンルームの環境維持、液体による冷却（フォトリソグラフィーやイオン注入工程での熱を効率よく除去）など半導体製造のあらゆる工程で「品質を守る」ための使用される重要なガスである。
Ar	成膜工程での反応制御、ドーピングや熱処理時の酸化防止、封止工程での保護雰囲気形成、キャリアガス、プラズマ生成用ガスなどで利用されております。
H2	ウェハーの表面処理や洗浄工程、成膜・アニーリング工程（水素アニーリングにより、シリコン界面の欠陥を低減、絶縁膜やゲート酸化膜の信頼性向上）。
成膜用ガス	基板上で化学反応を起こし、目的の薄膜を形成する原料ガス。主には、シリコン系（シラン、ジシラン、テトラエトキシシラン）、金属系（六フッ化タングステン、四塩化チタン、三塩化ホウ素）、有機金属系（トリメチルガリウム、トリメチルアルミニウム）などがあります。
エッチング用ガス	基板上の不要な材料を選択的に除去し、微細な回路パターンを形成するために必要なガス。フッ素系（四フッ化炭素、トリフルオロメタン、六フッ化硫黄、三フッ化窒素）塩素系（塩素、三塩化ホウ素、塩化水素）、臭素系（臭化水素）などがあります。
ドーピング用ガス	シリコンなどの半導体材料に不純物（ドーパント）を添加し、電気特性（導電性やキャリア濃度）を制御する際に使用されます。主なガスは、ホスフィン（PH3）、ジボラン（B2H6）、アルシン（AsH3）となります。また、ドーピング工程には、イオン注入法、熱拡散法、エピタキシャル成長中のドーピングなどがあります。
クリーニング用ガス	半導体製造装置内部（特にCVDやエッチングチャンバー）や配管に付着した残留物・堆積物を除去するために使用されるガス。主なガスは、三フッ化窒素（NF3）、フッ素（F2）、三フッ化塩素（ClF3）などがあります。 ClF3は、主にセントラル硝子と関東電化工業で製造され、岩谷産業の特許商品でありました。
レアガス	プラズマ生成と成膜・エッチングでは、アルゴン（スパッタリングやCVDなどの工程）が利用されています。露光装置の光源として、ネオン、クリプトン、キセノンはエキシマレーザーの光源で使用されております。冷却とリーク検査では、ヘリウムが超電導磁石の冷却や真空装置のリーク検査で使用されております。パージ・キャリアガスでは、アルゴンやヘリウムが利用されております。
標準ガス	分析機器の校正、プロセスガスの濃度確認、製造装置の性能確認、環境モニタリングで利用されております。

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イワタニファインガスでは超高純度の酸素や窒素、水素、ヘリウム、アルゴン、炭酸ガス、キセノン、ネオン、クリプトン等を品揃えしております。

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